Resina UV de secado rápido resistente a los ácidos fuertes

 

Se recomienda el uso de resina T-7111N en procesos de revelado fotosensible, y el revelado será claro y sin residuos. Puede resistir todo tipo de líquidos de grabado ácidos fuertes y erosión alcalina débil. 100% libre de solventes, apto para procesos de impresión y pulverización. Se seca rápidamente, emerge rápidamente y se seca suavemente sin pegarse. Tiene una excelente adherencia a todo tipo de metales, vidrio, cerámica y laminados revestidos de cobre. Después del curado UV, la dureza, el aislamiento y la resistencia al grabado alcanzan el estado óptimo antes de que se pueda llevar a cabo el proceso de grabado. Se utiliza para funciones de protección durante el marcado de metales, grabado con ácido de vidrio, anodizado, grabado de placas de circuito, galvanoplastia y otros procesos.

En aplicaciones de tinta UV, la resina T-7111N se utiliza para la impresión de página completa mediante serigrafía. Se seca rápidamente y no se pega a la película. Revelado claro de alta resolución con carbonato de sodio (revelado de 20 segundos), álcali caliente de hidróxido de sodio al 5 % para eliminar la película en 1-3 minutos. En el campo de los recubrimientos UV, el recubrimiento por pulverización se puede utilizar al procesar vidrio curvo 3D, láminas de metal con formas especiales y placas de identificación. El pigmento tiene una excelente humectabilidad y se puede agregar color. Tiene una excelente adherencia a una variedad de materiales.

 

 

 

 

 

T-7111N se utiliza en tecnología de exposición y desarrollo.

 

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